CJ係列（liè）磁控（kòng）濺射真（zhēn）空鍍膜機的磁控濺射工作原理（lǐ），所謂“濺（jiàn）射”就是用荷能（néng）粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起（qǐ）物體表麵原子從母體中逸出（chū）的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了（le）這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均（jun1）勻電場（chǎng）和對數電場則（zé）分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片（piàn）的過程中與氬原（yuán）子（zǐ）發生碰撞。若（ruò）電子具有（yǒu）足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電（diàn）子，電子飛向基片，Ar+在電場作用（yòng）下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟（hōng）擊（jī）靶表（biǎo）麵，使靶材發生濺（jiàn）射。 

廣（guǎng）泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具（jù）、車燈反（fǎn）光罩（zhào）、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍（dù）膜及工模（mó）具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電（diàn）膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠（kào）的鍍製預定厚（hòu）度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜（mó）層；
2）、薄膜與基片的附著（zhe）力強。部分高能量的濺射原子產生不同程（chéng）度的注入現（xiàn）象，在基片上形（xíng）成一層濺射原子與（yǔ）基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備（bèi）特殊材料的薄膜，可（kě）以使用不同的材料同時濺射製備混（hún）合膜、化合膜（mó），還可（kě）濺（jiàn）射成TiN仿金膜；
4）、膜層純（chún）度高，濺射膜層（céng）中不會混入坩鍋加熱器材料（liào）的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷（lěng）鍍成膜，節能省（shěng）電，提高產能。