CJHL係列磁控(kòng)多(duō)弧真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:08:50 人(rén)氣:26195
CJHL係列磁控多弧真空鍍膜機

工作原理

CJHL係列多功能型真空鍍膜機(jī)中集成了多弧離子鍍膜與(yǔ)磁控濺射鍍膜兩種沉積技術與一體化,特別適用於鍍製多種金屬膜(mó),也可以鍍多(duō)層膜、合金膜及化學物質,如鍍超硬(yìng)耐磨損膜、防腐蝕膜、裝飾膜(金(jīn)、銀、黑、紅、藍、綠等顏色)、結合磁(cí)控濺射(shè)技術可鍍製多層複合膜,可以鍍製不鏽鋼、鋁、鈦、鎢等多種金屬膜,也可鍍製如TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金剛石膜(DLC)、裝飾膜等非金屬及其化(huà)合物的膜(mó)層和複(fù)合(hé)膜層。

應用範圍

適用於五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等,如手表、手機(jī)金屬殼、潔具、模具、電子產品、水晶玻璃、眼鏡框、餐具、刀具等。近年,電弧(hú)離子(zǐ)鍍膜技術得到了很大的發展,從原來單一的(de)小弧源發展到(dào)柱弧、大(dà)平麵弧等。而且與中頻磁控濺射技術的結合使得設備的適用麵更廣,比如在硬質塗層(céng)的應用、更光潔細密的裝飾塗層的應用(yòng)等。

產(chǎn)品特點

1) 裝(zhuāng)備低溫離子輔助源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜,節能省電,提高(gāo)產能。
2)綜合了磁控鍍與多(duō)弧鍍的特點,覆蓋領域廣泛,能夠在(zài)各種材料上鍍製各類功能膜、裝飾膜和帶裝飾效果的功能(néng)膜(mó)。

技術參數表(biǎo)

CJHL係列磁控多弧真空鍍膜機
型號CJHL-600CJHL-800CJHL-1000CJHL-1200CJHL-1400CJHL-1500CJHL-1600
真空(kōng)室尺(chǐ)寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT500擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙(shuāng)KT630擴散泵機組
鍍(dù)膜係統(tǒng)直(zhí)流電源或中頻(pín)電源+多弧鍍(dù)膜電(diàn)源、多功能孿生磁環弧靶+矩形平麵靶+圓柱磁控多弧兩用靶(可選配(pèi))
輔助鍍膜係統(tǒng)低溫離子輔助源(除工具鍍外無需加溫係統)
充氣係統質量(liàng)流量計質量流(liú)量(liàng)計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計(jì)
控製方式手動或全自動手動(dòng)或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動
抽(chōu)氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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