GSF係(xì)列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:25654
GSF係列高(gāo)精密電子束蒸發光學真空鍍膜機

工(gōng)作原理

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作原理是(shì)將膜材放入(rù)水冷(lěng)銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材中的(de)原子或分子從表麵汽化逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子(zǐ)束蒸(zhēng)發比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密(mì)度大(dà)、蒸發速(sù)度快,製成的(de)薄膜純度高。

應用範圍

光學鍍膜設備可鍍製層數(shù)較(jiào)多的短(duǎn)波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜(mó)、彩色反射(shè)膜(mó)等(děng)各種膜係,能夠實現0-90層膜的(de)膜係鍍膜(mó),也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配(pèi)置不同的蒸發源、電子槍和離(lí)子源及(jí)膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆(jiē)可蒸(zhēng)鍍。

產(chǎn)品特點

1)、高精密光學(xué)鍍膜機配備有石英晶體(tǐ)膜厚儀、光(guāng)學膜厚自動控(kòng)製係統,采用PLC與工(gōng)業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全自動控製,可以實現無人值守,從而提高了工作效(xiào)率和保(bǎo)證產品質量的一致性和穩(wěn)定性(xìng)。
2)、大抽速真空係(xì)統加配深冷裝置,優秀的(de)動態真空能力,為複雜的光(guāng)學(xué)膜係製備提供了必(bì)要的真空條件保障。
3)、蒸發分(fèn)布穩(wěn)定、性能可靠的E型電子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係,為精密膜(mó)係的(de)實現調工了膜料蒸(zhēng)發分布方麵的保障。
4)、平穩而高速旋轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光譜(pǔ)曲線更趨於一致。
5)、適用於光學領(lǐng)域行(háng)業,大規模(mó)工業生產高端要求的廠商使用。

技術參數表

GSF高精密電子束蒸發光學真(zhēn)空鍍膜機
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺(chǐ)寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵(bèng)機(jī)組KT500擴散泵(bèng)機組KT630擴(kuò)散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係(xì)統電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源(yuán)
充氣係統壓強控製儀
控製方式半自(zì)動或全自(zì)動
膜厚監控係統石(shí)英晶體膜厚監控係統、光學膜厚監控(kòng)係統
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空(kōng)3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求(qiú)設(shè)計訂做(zuò)
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