CJ係列磁控濺射真（zhēn）空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用（yòng）荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵原子從母體中（zhōng）逸出的現象。早在1842年（nián）Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁（cí）控濺射靶采用靜止電（diàn）磁場，磁場為曲線（xiàn）形，均勻電場和（hé）對數電場則分別用於平麵靶和同（tóng）軸圓柱靶。電子在電場作用下，加（jiā）速飛向基（jī）片的過（guò）程中（zhōng）與氬原子發生碰撞（zhuàng）。若電子具有足夠的能（néng）量（約為30ev）時（shí），則電離出Ar+並產生（shēng）電子，電子飛向基（jī）片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工（gōng）藝美術（shù）品、玩具、車（chē）燈（dēng）反光罩、手機按鍵（jiàn）外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模（mó）具的功（gōng）能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導（dǎo）電（diàn）膜等（děng）領域有優勢（shì）。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定（dìng）厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料（liào）的薄膜，可（kě）以使用不同（tóng）的材料同時濺射製（zhì）備混合（hé）膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高，濺（jiàn）射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助（zhù）源，無需加熱直接常溫（wēn）冷（lěng）鍍成膜，節能省電，提高產能。