GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜(mó)機(jī)

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:25663
GSF係列高精(jīng)密電子束蒸(zhēng)發光學真空鍍膜機

工作(zuò)原理

GSF高精密電子束蒸發光學真空(kōng)鍍膜機的工作(zuò)原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利(lì)用電子束加(jiā)熱(rè),使膜材中的原子或分子從(cóng)表麵汽(qì)化逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸(zhēng)發比一般(bān)電阻(zǔ)加(jiā)熱蒸發熱效率(lǜ)高、束流密度大(dà)、蒸發速度快,製成的薄膜純度高。

應(yīng)用範圍

光學鍍(dù)膜設備可鍍製層數較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜(mó)、高反膜、彩色反射膜等各種膜係(xì),能夠(gòu)實現0-90層膜的膜係(xì)鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要(yào)求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子(zǐ)源及膜厚(hòu)儀可(kě)鍍多種膜係,對金屬、氧化物、化合物及其他高熔(róng)點膜材皆可蒸鍍。

產品特點

1)、高精密光學鍍(dù)膜機配備有石英晶體膜厚儀(yí)、光學膜厚自動控製係(xì)統,采用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全自動控製,可以(yǐ)實現無人值守,從而提高了工作效率和保(bǎo)證產品質量的一致性和穩定性(xìng)。
2)、大抽速真(zhēn)空係統加(jiā)配深冷裝置,優秀的動態真(zhēn)空能力,為複雜的光學膜係製備提供了必要的真空條件保(bǎo)障。
3)、蒸發分布(bù)穩定、性能可靠的E型電子槍,優化設計的蒸發(fā)源與工件架之間的位置關係,為(wéi)精密膜係的實現調工了膜料蒸發分布方(fāng)麵的(de)保障。
4)、平穩而高速(sù)旋轉的工件(jiàn)架轉動係統,使工件架內外(wài)圈(quān)產品(pǐn)光譜曲(qǔ)線(xiàn)更趨於一(yī)致。
5)、適用(yòng)於光學領域行業,大規模(mó)工業(yè)生產高端要求(qiú)的廠商使用。

技術參數表

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機(jī)
型(xíng)號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT630擴散(sàn)泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散(sàn)泵機組KT500擴散泵(bèng)機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係(xì)統電子(zǐ)槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離(lí)子源
充氣係統壓強(qiáng)控製儀
控製方式半自動或全自動
膜厚監控係統石英晶體膜厚監(jiān)控係統(tǒng)、光學膜厚監控係統
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備(bèi)注(zhù)以上(shàng)設備參數僅做參考,具體均按(àn)客戶實際工藝要求設計訂做(zuò)
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