CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表（biǎo）麵原子從母體中逸（yì）出（chū）的現象。早在（zài）1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電（diàn）磁場（chǎng），磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵（miàn）靶和同（tóng）軸圓柱靶。電子在（zài）電場（chǎng）作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的（de）能（néng）量（約為（wéi）30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加（jiā）速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具（jù）、車（chē）燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀（yí）器儀表、塑（sù）料、玻璃、陶瓷、磁磚等表（biǎo）麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗（tú）層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢（shì）。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠（gòu）可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可（kě）以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層（céng）；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度（dù）的注入現象，在（zài）基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴（kuò）散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射（shè）成TiN仿（fǎng）金膜；
4）、膜層純度高（gāo），濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子（zǐ）輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。