如何掌控真空鍍膜的均勻性
我們先來認（rèn）識下怎麽調試鍍膜機（jī），因為（wéi）掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的（de）抽真（zhēn）空（kōng）速度（dù），在測試（shì）過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性（xìng）能；
2、測試（shì）設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小（xiǎo）時看（kàn）壓降是否達標（biāo），同時排除細小的（de）漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比（bǐ）如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並作測（cè）試。
5、所有的測試（shì）應（yīng）作（zuò）記錄，並有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認簽字

怎麽掌（zhǎng）控真空鍍膜的均（jun1）勻性（xìng）？
由（yóu）於車燈鍍膜（mó）機原理的不同分（fèn）為很多種類（lèi），僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡（jìn）相同。並且均勻性這個概念本身也（yě）會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下（xià）麵分（fèn）別說一下：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻（yún）性（xìng），也可以理（lǐ）解（jiě）為粗糙度，在光學薄膜的尺（chǐ）度上看（也就是1/10波長作為單（dān）位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗（cū）糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是（shì）說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障（zhàng）礙。但（dàn）是（shì）如果是指原子（zǐ）層尺度上（shàng）的均勻度，也就是說要實現（xiàn）10A甚至1A的表麵平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分（fèn）上的均勻性：就是說在薄膜（mó）中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產（chǎn）生不（bú）均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機（jī）過程不科學，那（nà）麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比（bǐ）例，鍍的（de）膜並非是想要的膜的化學成（chéng）分，這（zhè）也是真（zhēn）空鍍膜的技術含量所在。
3、晶格有序（xù）度的均勻（yún）性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的（de）熱點問題。 

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