離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的（de）同時，將蒸發（fā）物或反應物沉積在基片（piàn）上。離子鍍把輝光放電現象、等（děng）離子（zǐ）體技術（shù）和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材（cái）廣泛（fàn）等（děng）。多弧離子鍍與（yǔ）一（yī）般的離子鍍有著很大的區別。多（duō）弧離子鍍采用的是弧光（guāng）放（fàng）電，而並不是（shì）傳統離（lí）子（zǐ）鍍的輝（huī）光放電進行沉積。簡單（dān）的說，多（duō）弧離子（zǐ）鍍的原（yuán）理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶（bǎ）與陽極（jí）殼體之間的（de）弧光放電，使靶（bǎ）材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

可以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合（hé）金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍（dù）膜機主要針對大麵積五金工件鍍裝飾膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類（lèi）設備真（zhēn）空（kōng）室（shì）最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板材、管材上鍍製（zhì）各類裝（zhuāng）飾膜層及（jí）功（gōng）能膜膜層的適合設（shè）備。