化學氣相（xiàng）沉積（jī）是一種製備材料的氣相（xiàng）生長方法，它（tā）是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室，借助（zhù）空間氣相化學反應（yīng）在基（jī）體表麵上沉積固態薄膜的工藝技術。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱CVD)是反應物質在氣態條件下發生化學反應，生成固態（tài）物（wù）質沉（chén）積（jī）在加熱的固態基體表麵，進而製得固體材料的工藝技術。它本質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相對的是（shì）物理（lǐ）氣相沉（chén）積（jī）（PVD）。