真空鍍膜（mó）機主要指一（yī）類需要在較高真（zhēn）空（kōng）度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子（zǐ）蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。今天，昆山芭乐视频ios真（zhēn）空技術（shù）工（gōng）程有（yǒu）限公司為您介（jiè）紹以下幾種鍍膜機工作（zuò）原理：
    

        一、空心陰極離子鍍原理

               在本底真空為高真空的條件（jiàn）下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2）在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓（yā），使氬氣發生輝光放電，在空心陰極內產生低（dī）壓等離（lí）子（zǐ）體放電，陰極溫度升高到2300-2400K時，由冷陰極放電轉為熱陰極放電，開始熱電子（zǐ）發射，放電轉為穩定狀態。通入反應氣體，可以製化合膜（mó）。

        二、測控濺射工作原理

              先將真空（kōng）室預抽至10-3Pa，然後通入氣體（tǐ）（如氬氣），氣壓為1-10 Pa時，給靶加負電壓，產生輝光放電，電子在電場正作用（yòng）下加速飛向基片時，與氬原（yuán）子碰撞，電離出Ar和另一個電子；轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶（bǎ）材；磁場改變電子的運動方（fāng）向，以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離幾率。

        三、多弧（hú）離子鍍工作原理

               其工作原理為（wéi）冷陰（yīn）極（jí）自持弧光放電，其物理基礎為場致發射。被鍍材料接陰極（jí），真空室接（jiē）陽極，真空室抽為高真空時，引發電極啟動器，接觸拉開，此時，陰極與陽極之間形成穩定的電弧放電，陰極表麵布滿飛（fēi）速遊動的陰極斑，部分離（lí）子對陰極斑的（de）轟擊使（shǐ）其變成點蒸發（fā）源，以若幹個（gè）電弧蒸發源為核心的為多弧離子（zǐ）鍍。

        四、電阻蒸發式（shì）鍍膜機

               膜材（cái）即要鍍的材料放於（yú）蒸發舟（zhōu）中，置於真空（kōng）室中，抽到一定真空時，通過電阻加熱膜材，使其蒸發，當（dāng）蒸發分子的平均自由程大於蒸（zhēng）發源至基（jī）片的線性尺寸時，原子和分子從蒸發源中逸出後，到達基片形成膜。為了使膜厚均勻（yún），可以利用電機帶動基片旋轉，並用膜厚儀控製膜厚，製出優質膜。

        五、E型槍（qiāng）工作原理

               陰極燈絲加（jiā）熱後發射具有0.3    EV初動能的熱電子，這些熱電子在燈絲陰極與陽極之間的電場作用（yòng）下加速並（bìng）會聚成（chéng）束狀。在電磁線圈（quān）的磁場中（zhōng），電子束（shù）沿E x B的方向偏轉，通過陰極時，電子的能量提高到10KV，通過陽（yáng）極電子偏轉270度（dù）角而入射坩堝內的膜材表（biǎo）麵上，轟擊膜材使其蒸發。

        六、PCVD鍍膜工作原理

               將被鍍件放在低壓輝光放電的陰極上，通入適當氣體，在一（yī）定溫度下（xià），利用（yòng）化學反（fǎn）應和離子轟擊相結合的過程，在工件表麵獲得塗層。

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