真空（kōng）鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分（fèn）支，它已廣泛（fàn）地應用於光學、電子學、能源開發，理化儀器、建築（zhù）機械、包裝、民用製品（pǐn）、表麵科學以及科學研究等領域（yù）中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還（hái）有化學氣（qì）相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變（biàn）物質表麵的物理、化學性能的話，這一技術又是真空表麵處理技術中的重要組成部（bù）分，其（qí）分類如表 6 所示。現就其幾個主要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃（lí）或石英表麵上鍍一層或（huò）幾層不同物質的薄膜後，即（jí）可成為高反射或無反射（即增透膜）或者作任何預期比（bǐ）例（lì）的反射（shè）或透射材料，也可以作成對某種波（bō）長（zhǎng）的吸收，而對另一種波長的透射（shè）的（de）濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡（jìng）和各種激光器（qì）開始、一直到新型（xíng）建築物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。增（zēng）透膜則大量用於照相和各種激光器開（kāi）始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增（zēng）透膜則大量用於照相機和電（diàn）視攝象機（jī）的鏡頭（tóu）上。

        在電子（zǐ）學方麵真（zhēn）空鍍膜更（gèng）占（zhàn）有極為（wéi）重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告（gào）訴邏（luó）輯元件等都要采用（yòng）導電膜、絕（jué）緣膜和保護膜。作為製（zhì）備（bèi）電路（lù）的掩膜（mó）則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜（xùn）器件、電荷耦合器件（ CCD ）也都甬（yǒng）道各種薄膜。

        在顯（xiǎn）示器件方麵，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的（de）透明（míng）導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也（yě）都是采用真空鍍膜法製備。在元件方麵，在（zài）真空中蒸（zhēng）發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以製造電阻（zǔ），在塑料上蒸發鋁（lǚ）、一氧化矽（guī）、二氧化鈦等可以製造電容器，蒸發硒（xī）可以得到靜電複印機用（yòng）的硒鼓、蒸發（fā）鈦酸鋇可以製造磁致伸（shēn）縮的起聲元（yuán）件等等。真空蒸發還可以用於製造超導（dǎo）膜和慣性（xìng）約束（shù）巨變反應用的微珠鍍（dù）層。此外（wài）還可以對珠寶、鍾表外（wài）殼表麵、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸（zhēng）鍍裝飾用薄膜（mó），以及采用（yòng）濺射鍍或離子鍍對（duì）刀具、模具等製造超（chāo）硬膜。近兩年內（nèi）所興起的（de）多弧離子鍍製備鈦金製品，如（rú）不鏽鋼薄板、鏡麵（miàn）板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄杆等目前正在盛行（háng）。