無論監控儀精度（dù）怎樣，它也隻能控製真（zhēn）空室裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果（guǒ）真空（kōng）電鍍設備此位置（zhì）的（de）膜厚不是絕對均勻的，那麽遠離中心位置的基片就（jiù）無法得到均勻的厚（hòu）度。雖然屏蔽罩能消除（chú）表（biǎo）現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引（yǐn）起的，所以幾乎是（shì）不可能（néng）消除的，但對真空室的結構（gòu）和（hé）蒸（zhēng）發源的（de）恰當選擇（zé）可以（yǐ）使這（zhè）些影響最（zuì）小化。
　　在過去幾年中（zhōng），越來越多（duō）的用戶要求鍍膜係統製造廠家提供（gòng）高性能的小規格、簡便（biàn）型光（guāng）學鍍膜係統，同時，用戶（hù）對性能的要求不僅（jǐn）沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密（mì）度和保（bǎo）證（zhèng）吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行（háng）光學鍍膜（mó）的生（shēng）產也（yě）已經轉變（biàn）成（chéng）為純技（jì）術問題。因此，選用現代化光學鍍膜係統的關鍵取決於對（duì）以下因素的認（rèn）真考慮（lǜ）：對鍍膜產品的預（yù）期性（xìng）能，基片的尺寸大小和物理（lǐ）特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

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