一. 鍍層（céng）附著（zhe）性能好 

普通真空鍍（dù）膜時，蒸發料粒子大約隻以一個電子伏特的能量向工件表麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層（céng）之間（jiān），形成（chéng）的界麵擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微（wēi）米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發絲的（de）百分之（zhī）一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層，好（hǎo）似截然分開。而離子（zǐ）鍍時，蒸發料粒（lì）子電離後具有三千到五千電子伏特的動能。如（rú）果說普通真空鍍膜的粒（lì）子相當於一個氣喘（chuǎn）籲籲的長跑運（yùn）動員，那麽離子鍍的粒（lì）子則好似（sì）乘坐了高速火箭（jiàn）的乘客，當其（qí）高速轟擊工件時（shí），不但（dàn）沉積（jī）速度快，而且能（néng）夠（gòu）穿透工件表麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子（zǐ）鍍的界麵擴散深度可達四至五微米，也就是說（shuō）比普通真空（kōng）鍍膜的擴散深度要（yào）深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢（láo）。對離子鍍後的試件作拉伸試驗表明，一直（zhí）拉到快要斷裂時，鍍層仍隨（suí）基體金屬一起塑性延伸，無起（qǐ）皮或（huò）剝落現象發生。

二.繞鍍（dù）能力強

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動（dòng），因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜隻能在直射方向上獲得鍍（dù）層優越得多。因此，這種（zhǒng）方法非常適合於鍍複零（líng）件上的內孔（kǒng）、凹槽和窄縫。用普通真空鍍膜隻能鍍直射表麵，蒸發料粒子尤如攀登雲梯一樣，隻順梯而上（shàng）；離子鍍（dù）則能（néng）均勻（yún）地繞鍍到零件的背麵和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規（guī）定的航線飛抵其活動半徑（jìng）範圍內的任何地方。

三. 鍍層質量好

離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡（pào）、厚度均勻。甚至（zhì）棱麵和凹槽都可均勻鍍複，不致形（xíng）成金屬（shǔ）瘤。像螺紋一類的（de）零件也（yě）能（néng）鍍（dù）複，由於這種工藝方法還（hái）能修補工件表麵的（de）微小（xiǎo）裂紋和麻點等缺陷，故可有效地（dì）改（gǎi）善被鍍零件的表麵質量和物理（lǐ）機（jī）械性能。疲勞試驗（yàn）表明，如果處理得（dé）當，工件疲勞壽命可比（bǐ）鍍前高百分之二、三十.