真（zhēn）空鍍膜設備多弧離子鍍膜（mó）上的創（chuàng）新方法，所謂多弧離子（zǐ）鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於室（shì）內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜（mó）采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸（zhēng）發或升華，並飛行（háng）濺射到被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子（zǐ）鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優點，可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中於分子的碰撞，

減少（shǎo）氣（qì）體中的活性分子和蒸發源材（cái）料間的化學反應（如氧化等），以及減少成（chéng）膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質（zhì）的量，從（cóng）而提供膜層的致密度（dù）、純（chún）度（dù）、沉積速率和（hé）與基板的附著力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處理的不（bú）足，且各項（xiàng）技術指（zhǐ）標都優於傳統工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。

催化液和傳統處（chù）理工藝相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成（chéng）本、成本僅為多（duō）弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之（zhī）一，不鏽鋼的四分之一，可反複利用，大大降低了成本。