磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：18276
磁控濺射鍍膜設備是一種（zhǒng）具有結構簡單、電（diàn）器控製穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選（xuǎn）擇對（duì）薄膜的性能具（jù）有重（chóng）要（yào）影響（xiǎng）。
磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中采用的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本（běn）底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射（shè）→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表麵檢驗→性能測試（shì）→包裝、入庫。
以上（shàng）工藝技（jì）術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用（yòng）合適的靶材和濺（jiàn）射工藝，製出超硬的（de）耐磨鍍層，可以實現材料的高硬度、高耐磨（mó）、高耐劃傷特性（xìng）；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強（qiáng）度（dù）高，具備外觀件時尚、美觀（guān）的特（tè）點（diǎn），而且不會屏蔽電磁（cí）信號。
磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子消費（fèi）品的表麵（miàn）裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其（qí）美觀性和（hé）藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。
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