膜（mó）厚的（de）量測方法大致上可分為原位量測、離位量測兩類（lèi） 

原位星測係指（zhǐ）鍍膜進行中量測，普遍使用在物（wù）理氣相（xiàng）沉積，如微天平、光學、電阻量（liàng）測。

離位（wèi）量測係指鍍膜完（wán）成後量測，對電鍍膜（mó）的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質（zhì）量（liàng）、剖麵計、掃描式電子顯微鏡。