真空鍍（dù）膜技術是一種新（xīn）穎的材料合成與加（jiā）工技術，是表麵工程技術領域的重要組成部分；

起源於20世紀30年代，直到80年代才（cái）形成工業化大規模生產，廣泛應用於電子、裝潢裝（zhuāng）飾（shì）、通訊、照（zhào）明等工業領域。

是在真（zhēn）空環境下，金屬或金屬氧化物變成（chéng）氣態原子或分子，沉積（jī）在金屬或非（fēi）金屬表麵而形成。 

被譽為最（zuì）具發展（zhǎn）前（qián）途的重要技（jì）術之一（yī），並在高技術產業化的發展中（zhōng）展現出誘人的市場前景。

真空的作用

1. 減少（shǎo）蒸發分子跟殘餘氣體分子的碰撞

2. 抑製它們之（zhī）間的反應

優（yōu）勢 

低耗能、無毒、無廢液、汙染小、成本低、裝飾效果好、金屬感強。