氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜（mó）來說是極（jí）其重要的，通過機械結構設計（jì），使氣體密（mì）度的變（biàn）化率在（zài）濺射沉（chén）積區域內的盡量小。

而在區域外，使係統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽氣係統的效率。

控製氣體分布的機械部件或結構包括布氣係統、真（zhēn）空室的（de）結（jié）構、抽氣係統等三個部分。