對於（yú）真空鍍膜機設備的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備，包括真（zhēn）空離子蒸發鍍膜機、磁控（kòng）濺鍍（dù）膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉（chén）積鍍膜機（jī）等很多種。

主要（yào）是分成蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材同（tóng）在真（zhēn）空腔中。
蒸發鍍膜一般（bān）是加熱靶材使表麵組分（fèn）以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表麵，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機對於濺射類鍍膜，可以（yǐ）簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，
並且最終沉積在基片表（biǎo）麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組（zǔ）合製成的雙層水冷結（jié）構。

根據工藝要求（qiú）選擇不同規格及類型鍍膜設備，其（qí）類型有電（diàn）阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真（zhēn）空（kōng）鍍膜設備、離（lí）子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空（kōng）鍍膜設備、空心（xīn）陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶（hù）可根據片尺寸（cùn）及形狀提出相應要求，轉（zhuǎn）動的速度範圍（wéi）及（jí）轉動（dòng）精度：普（pǔ）通可調及變頻調速（sù）等。