用來進行介質膜的濺射，如在玻璃（lí）上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴散隔離層，該SiO2膜就是（shì）采用射頻濺射。
通常在濺射過（guò）程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時，會（huì）與陰極的電子中和，是的濺射現象可以繼續進行。
但若靶材本身不導電的話，離子（zǐ）撞擊到靶材上沒（méi）有電子中和，
正電荷一直累積，使與後來的離子排斥，這會造成取代直（zhí）流電（diàn）源，使（shǐ）可解決此離子撞擊現象的（de）停頓。
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