磁控濺射真空（kōng）鍍膜機（jī）需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被（bèi）稱（chēng）為（wéi）靶材。 基片與靶材（cái）同在真空腔中。蒸（zhēng）發鍍膜（mó）一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式（shì）被蒸（zhēng）發出來。並且沉降在（zài）基片表（biǎo）麵，通過成膜過程（chéng）（散點－島狀結（jié）構（gòu）-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電（diàn）子或（huò）高能激光（guāng）轟擊（jī）靶材，並使表（biǎo）麵組分以原子團或（huò）離子形式被濺（jiàn）射（shè）出來，並且最終沉積（jī）在基片表麵，經曆成（chéng）膜過程，最終形成薄（báo）膜。

使用步驟（zhòu）：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開總電源。
3、開（kāi）維持泵（bèng）、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小（xiǎo）於（yú）10後，再進入下一步操作。約需5分鍾。
4、開（kāi）機械泵、預抽，開渦輪分（fèn）子泵電源、並啟（qǐ）動，真（zhēn）空計開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀察（chá）渦輪分子泵讀數到達250以後，關預抽，開前級泵和高（gāo）真空閥繼續抽真（zhēn）空（kōng），抽真空（kōng）到達一（yī）定程度後才能開右邊的高真空表頭，觀察真空（kōng）度。真空到達2×10-3以後才能打開電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電（diàn）源：按電子槍控製Ⅰ電（diàn）源、延（yán）時開關，延時、電源及（jí）保護燈亮，三分鍾後（hòu）延時及（jí）保護燈滅（miè），若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為（wéi）20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間（jiān）擺動（dòng）。

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