真空（kōng）蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指（zhǐ）在一定的真空（kōng）條（tiáo）件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 

使（shǐ）其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並（bìng）飛行濺射到玻璃基板表麵凝結（jié）形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生，所以又稱熱蒸發法（fǎ）。蒸發源（yuán）作為蒸發裝置的關鍵部件，

大（dà）多數蒸（zhēng）發材料（liào）都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源（yuán）的不同可分為電阻法、電子束蒸發（fā）法、高頻感應法和激光蒸發法等。