濺射靶材具（jù）有高（gāo）純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的目標材料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原子被濺射飛散出（chū）來並（bìng）沉積於基板（bǎn）上製成電（diàn）子薄膜。

由於高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高（gāo）真（zhēn）空的機台環境內完成（chéng）濺射過程。

超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通（tōng）過（guò）不同的焊（hàn）接工藝（yì）進行接合，背板（bǎn）起（qǐ）到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱（rè）性能。