什麽是（shì）PVD 技術 

PVD-物理氣（qì）相（xiàng）沉積：指利用物理過程實現物質轉移，將原（yuán）子或分子由源轉移到基材表麵上（shàng）的過（guò）程。

它的作用是可以使某些有特殊（shū）性能（強度高（gāo）、耐磨性、散熱性、耐（nài）腐性等）的微粒噴塗在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍（dù） 、離子鍍（空（kōng）心陰極離子鍍、熱陰極離（lí）子鍍、電（diàn）弧（hú）離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍（dù）、直流放（fàng）電（diàn）離子鍍）。

PVD 技術（shù）是目前國際上科技含（hán）量高且被廣泛應用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜層（céng）致密均勻、附著（zhe）力強、鍍性好、沉積（jī）速度快、處理溫度低（dī）、可鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過程是高溫（wēn）狀態下（xià），等離子場下的輝光（guāng）反應，亦是一個高淨化處理過程；鍍層的主（zhǔ）要原（yuán）材料是以鈦金（jīn）屬為主，鈦是金（jīn）屬中最與（yǔ）人體皮膚（fū）具親和性能的，使得PVD 產品（pǐn）本（běn）身具備純淨的環保性能。