濺射靶（bǎ）材： 濺射靶材按形狀（zhuàng）分類：矩形平麵靶材、圓形平（píng）麵靶材、圓柱靶材

濺射靶材按成分分（fèn）類：單質金屬靶（bǎ）材、合金靶材、陶瓷靶材

平麵靶材利用率比較低，隻有30%左右，沿著環形（xíng）跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶（bǎ）功率密度與靶材冷卻：靶功（gōng）率越（yuè）大，濺射速度越大；靶允許的功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用直接水冷，允許的靶功率高。

2. 靶背（bèi）板 target backplane

使用場（chǎng）合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄、靶材（cái）太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強度足夠---太薄（báo），容易變形，不易真空密封。 

結構： 

空心或者實心結構---磁鋼不泡或泡在冷水中（zhōng）；厚度適當---太厚，消耗部（bù）分磁強；太薄（báo），容易變形。